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    发布者:管理员 发布时间:2014/10/5阅读:2139次

     

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    耐高温www.xpj8455.com加入合金元素后,基体金属(A)、合金元素(B)在氧化时可能出现三种情况:1.形成A氧化物中有B离子2.形成的B的氧化物中含有A离子;A,B各自形成氧化物。

    在P型半导体(金属离子空位)加入低价合金元素离子;耐高温www.xpj8455.com如NiO的氧化膜中溶进一些一价Li离子,所以Ni++通过空位的传导性减弱。

    在N型半导体(阴离子空位)加入较高价的合金元素离子;

    这样会导致阴离子空位的降低,使氧离子传导削弱,耐高温www.xpj8455.com的抗氧化性也将提高。

    ②加入合金元素,提高氧化膜的稳定性耐高温www.xpj8455.com

    耐高温www.xpj8455.com元素氧化物按点阵结构、离子半径、电负性的条件的不同,稳定性不同。Cr、Al、Si的氧化物点阵结构接近Fe3O4,它们的离子半径比铁小,易稳定密度大的Fe3O4,缩小FeO形成温度。Mn、Cu的离子半径大于铁,易溶于疏松的FeO,他们是FeO的稳定剂,扩大FeO的相区,降低FeO形成温度。
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