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    发布者:管理员 发布时间:2017/7/23阅读:1463次

     

    耐高温www.xpj8455.com镀膜概念及其特点  

    耐高温www.xpj8455.com较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。耐高温www.xpj8455.com多弧镀设备结构简单,容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作,其引弧的过程也与电焊类似,具体地说,在一定工艺气压下,引弧针与蒸发离子源短暂接触,断开,使气体放电。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑,在蒸发源表面上连续形成熔池,使金属蒸发后,耐高温www.xpj8455.com沉积在基体上而得到薄膜层的,与磁控溅射相比,

    它不但有靶材利用率高,更具有金属离子离化率高,薄膜与基体之间结合力强的优点。此外,多弧镀涂层颜色较为稳定,尤其是在做 TiN 涂层时,每一批次均容易得到相同稳定的金黄色,耐高温www.xpj8455.com令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是,耐高温www.xpj8455.com在用传统的 DC 电源做低温涂层条件下,当涂层厚度达到0.3μm 时,沉积率与反射率接近,成膜变得非常困难。而且,薄膜表面开始变朦。耐高温www.xpj8455.com多弧镀另一个不足之处是,由于金属是熔后蒸发,因此沉积颗粒较大,致密度低,耐磨性比磁控溅射法成膜差。

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